Volframov silicid v prahu WSi2 v prahu

Volframov silicid (WSi2) je anorganska spojina, ki je silicid volframa. Je prevoden keramični material.

Uporablja se v mikroelektroniki kot kontaktni material z upornostjo 60-80 μΩ cm; Oblikuje se pri 1000 stopinjah. Pogosto se uporablja kot shunt za polisilikonske žice za povečanje njihove prevodnosti in hitrosti signala. Plast volframovega silicida je mogoče pripraviti s kemičnim naparjevanjem, na primer z uporabo monosilana ali diklorosilana z volframovim heksafluoridom kot izvornim plinom. Nanešen film je nestehiometričen in ga je treba žariti, da se pretvori v bolj prevodno stehiometrično obliko. Volframov silicid je zgodnja alternativa volframovemu filmu. Volframov silicid se uporablja tudi kot pregradna plast med silicijem in drugimi kovinami, kot je volfram.

Volframov silicid se uporablja tudi v mikroelektromehanskih sistemih in se v glavnem uporablja kot tanek film za izdelavo mikrovezij. V ta namen lahko filme volframovega silicida plazemsko jedkamo z uporabo na primer plina dušikovega trifluorida.

WSi2 se dobro obnese v antioksidacijskih premazih. Zlasti podobno kot molibdenov disilicid (MoSi2) je zaradi visoke emisijske sposobnosti volframovega disilicida ta material privlačen za visokotemperaturno sevalno hlajenje in vpliva na toplotno zaščito.